نقدم لكم ملف PDF كامل بعنوان High growth rate deposition of hydrogenated amorphous silicon-ger_2 وهو ضمن التصنيف الرئيسي الهندسة والذي يقع تحت التصنيف الفرعي هندسة كهربائية يجدر الذكر أن الملف يقع تحت قسم رسائل الماجستير والدكتوراه (ملفات PDF).